肇庆臭氧发生陶瓷片-臭氧发生陶瓷片印刷-厚博电子(商家)

单片集成电路工艺

利用研磨、抛光、氧化、扩散、光刻、外延生长、蒸发等一整套平面工艺技术，在一小块硅单晶片上同时制造晶体管、二极管、电阻和电容等元件，并且采用一定的隔离技术使各元件在电性能上互相隔离。然后在硅片表面蒸发铝层并用光刻技术刻蚀成互连图形，使元件按需要互连成完整电路，制成半导体单片集成电路。随着单片集成电路从小、中规模发展到---、---规模集成电路，平面工艺技术也随之得到发展。例如，扩散掺杂改用离子注入掺杂工艺;紫外光常规光刻发展到一整套微细加工技术，如采用电子束---制版、等离子刻蚀、反应离子铣等;外延生长又采用真空分子束外延技术;采用化学汽相淀积工艺制造多晶硅、二氧化硅和表面钝化薄膜;互连细线除采用铝或金以外，还采用了化学汽相淀积重掺杂多晶硅薄膜和硅化物薄膜，以及多层互连结构等工艺。

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厚膜技术应用得广泛的领域是厚膜混合集成电路，厚膜集成电路经历了厚膜电阻、无源网络、smt组装hic，cob 组装 (板上芯片键合) hic，密封微电子系统等阶段并发展到今天的多芯片系统( mcs)，经受了技术和生产重大变化的厚膜hic，正呈现蓬勃发展的势头。厚膜hic作为一种功能电路或微电子系统还涉及到电路的设计及组装及封装等问题。厚膜的相关工艺技术主要的内容有。

· 丝网掩摸的制备，

· 丝网印刷和烧结工艺，

· 调阻工艺，

· 厚膜浆料和基板，

· 厚膜元件和电路的布成设计，

· 厚膜技术在元器件制造中的应用。