









光致抗蚀干膜是六十年代后期研制与开发出来的光成像原材料。由主体树脂和光引发剂或光交联剂组成。又根据感光材料的种类的不同,有的增加触变剂、流平剂、填料等。此种材料的特点是分辨率高、抗蚀能力强、涂布均匀、感光层的厚度可制作成25μm、分辨率达到---值为0.10mm。工序操作简单易实现自动化生产,适合大批量印制电路板生产。但随着组装密度要求越来越高,印制电路图形的导细更细和间距更窄。采用此类光致抗蚀干膜,要制造出0.10-0.076mm导线宽度就显得困难。而且制作出更薄的光致抗蚀干膜,从加工手段分析是不太可能。所以,基干膜本身厚度与涂覆尺寸的收缩---再提高是很困难的



v干膜在嚗光后,颜色应有明显的变化,这样就可以避免重复嚗光和漏嚗光的错误,很多干膜都会添加变色剂来达到此功能.
v选好干膜后,正确的操作也尤为重要的,大概应注意如下事项:
v贴膜时,先从干膜上剥下聚乙烯保护膜,然后在加热加压的条件下将干膜抗蚀剂粘贴在覆
贴膜通常在贴膜机上完成,贴膜机型号繁多,加工电路板,但基本结构大致相同: 贴膜可连续贴,也可单张贴。连续贴膜时要注意在上、下干膜送料辊上装干膜时要对齐,
v压力:新安装的贴膜机,首先要将上下两热压辊调至轴向平行,然后来用逐渐加大压力的
v.溶剂型干膜
使用作显影剂和去膜剂,例如用1.1.1---显影,去膜,这两种溶
剂遇火不燃烧。---丁酯等也可用作显影和去膜,但烧,很不安全。 溶剂型干膜是美国早研制并投入大量生产的一种干膜,我国早期也研制过。它的优点是技术成熟,工艺稳定,耐酸耐碱,应用范围广。但是,电路板,使用这种干膜需要消耗大量的,需要价格昂贵的显影和去膜设备及辅助装置,生产成本高,溶剂有毒,污染环境,所以日趋以水溶 性干膜所取代,仅在特殊要求时才使用。
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2. 水溶型干膜
它包括半水溶性和全水溶性两种。半水溶性干膜显影剂和去膜剂以水为主,并加有2~15%的。全水溶性的干膜显影剂和去膜剂是碱的水溶液。半水溶性干膜成本较低,而全水溶性干膜的成本,毒性亦小。
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